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精密光学玻璃制造商

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掩膜版基板

用于半导体光刻的精密基板，支持晶圆曝光及精确电路图形转移

材料种类

玻璃以及石英

* 产品可接受定制

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技术参数

规格	单位	参考标准
尺寸	mm	152 × 152 × 6.35
公差	mm	外径 ±0.2；厚度 ±0.1
边缘倒角	—	90° ±5’；C0.3–0.6 × 45°
表面粗糙度（Ra）	nm	正面 ≤0.4；侧面 ≤5
总厚度偏差（TTV）	μm	≤2
边缘质量	—	无凹坑、崩边或边缘破损
包装	—	光罩盒

半导体光刻

作为半导体光刻工艺的精密掩膜基板，用于晶圆曝光及电路图形转移。罗克光电支持镀膜及图形化前的基板制备，在平面度、TTV、边缘质量、表面质量及洁净度方面均可实现严格控制。

半导体光刻